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    微波助力半导体研究

    点击次数:720 发布时间:2023-08-18

    当下,半导体产业备受关注,在新能源汽车、光伏、储能等需求带动下,第三代半导体产业高速发展。

     

    半导体材料处于半导体产业链的上游环节,是半导体产业的基石。其产业规模大、细分行业多。

     

    其中,半导体膜是由半导体材料形成的薄膜。根据制备半导体薄膜的技术不同,在结构上可分为单晶、多晶和无定形薄膜。

     

    探索最适合的消解参数,有利于后续对多种无机元素的快速准确测定。

     

    实验方案

     

     

    仪器

     

     

    新仪 MASTER-18 微波消解仪、赶酸器、分析天平(十万分之一)等

    图片

    试剂

     

    硝酸(68%),氢氟酸(40%)

     

    实验方法

     

    精确称取半导体薄膜材料50 mg(精确至0.1 mg),缓慢滴加8 mL 硝酸(剧烈反应,释放气体),静置10 min 左右,待无明显反应后,补加2 mL 氢氟酸,组装消解罐,按照如下设置参数进行实验:

     

    阶段

    温度/℃

    时间/min

    功率/W

    1

    150

    10

    400

    2

    180

    5

    400

    3

    210

    45

    400

     

    实验结束后,待冷却至60℃以下,取出消解罐转移至通风橱中缓慢打开,赶酸稀释后,样品可完全消解至澄清透明状态。

     

    结果

     

    实验选取的半导体薄膜材料样品,取样为50 mg,加入硝酸静置后,补加氢氟酸,最高实验温度210 ℃,保温40 min 左右,样品可完全消解。

     

    注意

     

    1、添加氢氟酸进行实验后,需进行赶酸处理,防止氢氟酸对玻璃器皿造成腐蚀,也可能会对实验结果造成影响。

     

    2、添加硝酸后样品反应剧烈,实验过程中应缓慢加入或者分多次加入硝酸,同时实验人员需做好防护。

     

     

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